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Ces filtres sont recommandés pour les gaz organiques, inorganiques, chimiques et à base d'ammoniac dans les applications industrielles, ainsi que pour la poussière.
La conception du filtre à charbon et à poussière de troisième génération de GVS repose sur deux technologies brevetées :
1. « L'encapsulation » du média filtrant HESPA permet une conception incurvée et discrète et optimise la résistance de l'élément filtrant à poussière plissé.
2. L'utilisation de carbone gradué prolonge le trajet des molécules de gaz à travers un matériau filtrant plus adsorbant et maximise donc les performances du gaz par rapport aux filtres conventionnels.
Le résultat est un filtre haute performance dont la taille et le poids sont 30 % plus petits que ceux d'un filtre moyen.
Masques complets FFM223K
Masques Elipse SPR312K (P/M), SPR223K (M/G)
Masques Integra IHM213K (P/M), IHM223K (M/L)
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